“好好~”

到了会议室，赵院士回办公室拿样品，何盛和李有力在会议室里等待。

“小盛，这段时间在干嘛呢，怎么都见到你去我家了。”

“书记，我去了趟港岛办点事，刚回来呢。”

“嗯，年轻人还是要以事业为重，不过有空了就要来家里坐坐，带带思言，让她和你多学习学习。”

李有力这话，怎么有点不一样的味道，难道是让自己跟李思言亲近，做上门女婿了？

何盛也没法拒绝李有力的好意，只能回答道。

“好的，过两天我就来。”

“嗯，到时候我让吴妈给你准备点特色菜，有什么爱吃的提前和我说啊。”

两人在会议室里完全就聊家常，压根不提什么别的工作啊，事业之类的事，简直就像翁婿之间的寒暄。

没一会，赵院士手里捧着一台笔记本电脑和一盒子东西走来。

他激动的把样品递给了李有力，向李有力介绍道。

“书记，这就是我们实验室做出来的样品，这是10纳米的工艺，我们的光刻机基本可以做到了，我试了一些，良品率很高，起码能有八成以上。”

其实所谓的这个7纳米、10纳米、14纳米、22纳米或者28纳米，它不是指的造出来的额芯片大小，也不是晶体管的大小，它是一个晶体管里的沟道的宽度。

芯片中的沟道宽度是指集成电路中两个相邻金属线之间的距离，沟道宽度决定了电子在集成电路中的传输速度和性能，是衡量半导体制程技术的重要指标之一。

更小的纳米制程，意味着在同样更小的芯片中，能塞下更多的晶体管。

比如14纳米的工艺，则在每1平方毫米里，可以塞下约3000万个晶体管；而10纳米的工艺，根据全球最顶尖的芯片制造商二特硬公布，他们的工艺在每1平方毫米里，可以塞下约1亿个晶体管。

想要做到能塞得下这么多晶体管，那就要靠光。

duv得名字是深紫外光，euv的名字是极紫外光。

波长越短的光，就能蚀刻出越微小的距离。

我们国家之前在研制的主要就是duv，能用duv把制造水平提高到了22纳米，这已经是极限了，再提升下去，euv的光刻设备要比duv省时省力省材料很多很多，继续使用duv只会事倍功半。

李有力拿着手上的样品，仔细看了半天，虽然他不懂里面的原理，但是他懂得这里蕴含的价值，这一枚小小的芯片，代表的是进步，华夏科技的一大步。

一旦问世，魔都不再只是金融之都，而是走向了金融与科技并列的发展方向，等于说是他开创了一个新的时代。

两人听完赵院士做的一些介绍，然后把问题引到最直接的方向上，那就是生产。

现在能力有了，下一步就需要生产出来，应用上去。

李有力直接问：

“老赵，这个光刻机能量产出来还需要多长时间，有没有什么困难需要我们解决？”

“书记，如果材料齐全，下半年我争取能出两台。

我们可能需要增加一些投资，用来购买或者研发生产一些必备的材料和设备。”

“这个没问题，我回去就叫国资委的人来开会，增加投资。”
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