一晃眼，2013年翻篇了，日子来到2014年。

硅谷的天气挺好，阳光明媚。

但全世界科技圈的大佬们，这会儿全在办公室里愁得揪头发。

出大事了。

而且是物理学层面的绝望大事。

全球半导体产业，这辆在摩尔定律的高速公路上狂飙了几十年的超级跑车。

突然砰的一声，撞上了一堵看不见的水泥墙！

集体卡壳了！

这堵墙的名字，叫14纳米物理极限。

啥意思呢？

简单来说，造芯片就是在指甲盖大小的硅片上画图。

你要在上面画出几千万、几十亿个晶体管。

画图得用笔吧？

半导体行业画图的笔，叫光刻机。

现在全世界最牛逼的光刻机，是dUV，也就是深紫外光刻机。

这玩意的光源波长是193纳米。

前些年，芯片工艺从90纳米、65纳米一路往下缩。

大家还能靠着在镜头里灌水、搞多重曝光这些花活儿，硬撑着把线条画细。

就好比你手里拿着一支粗马克笔，非要在米粒上写字。

你小心翼翼地描，勉强还能对付。

但是现在！

芯片制程推进到了14纳米这个变态的节点！

这就好比让你拿着一把扫帚，去画一幅清明上河图！

dUV光刻机，彻底达到了物理极限！

画不出来了！

光线太粗了，晶体管挤在一起，直接互相干扰，漏电漏得一塌糊涂。

芯片一通电，哧溜一下，直接烧成了电烤炉。

良品率低到让人想跳楼。

这下子，全球的科技巨头全傻眼了。

各大巨头的研发部门，直接宣告停滞！
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